エネルギー、ワイヤレス、産業、防衛技術に貢献する
パワーグレード窒化ガリウム基板

シックスポイントマテリアルズは独自のアンモノサーマル法NEAT (Near-Equillibrium AmmonoThermal)法で エネルギー・情報・産業・防衛技術に欠かせない キーマテリアル、窒化ガリウム(GaN)ウエハーを製造販売しています。弊社の GaN基板、GANKIBANは従来の製造法であるHVPE法で作られた基板より 欠陥密度が低いパワーグレードで、パワーエレクトロニクスに不可欠な高耐圧 スイッチングトランジスタ、無線通信等に使用されるRFデバイス、 レーザー加工機用途の超高出力青・緑色レーザダイオード、 さらには省エネルギーに貢献する発光ダイオード照明等のデバイスに用いられます。

Symbol of SixPoint

テクノロジー

シックスポイントマテリアルズは超臨界アンモニアを用いる化学プロセス、 「NEAT (Near Equilibrium AmmonoThermal)法」技術をコアに、窒化ガリウム 基板を製造しています。NEAT法は火山活動で成長する天然水晶と同じ 原理を用いており、その量産性は水晶の水熱合成法で実証されてます。 NEAT法を用いることで、従来は極めて困難であった、 窒化ガリウムの真のバルク結晶を育成することができ、低欠陥の 「パワーグレード」窒化ガリウム基板を低価格で提供することが可能となります。 弊社の「パワーグレード」窒化ガリウム基板GANKIBANは、パワーエレクトロニクスに 欠かせない、ハイパワースイッチングデバイス、ワイヤレス技術やレーダー技術に 欠かせないRFデバイス、産業用レーザーに用いられる超ハイパワーレーザ、 そして超高輝度LED等の実現に貢献いたします。 シックスポイントの技術は世界の100以上の特許によって守られております。